该 Metallurgical Microscope 采用 UIS2 无限远校正光学系统，支持 Bright‑field、Dark‑field、Nomarski‑DIC、Polarized light 多种观测模式，配置 5 孔物镜转盘，三目 U‑CTR30‑2 观察筒，视场数 FN26.5，瞳距调节区间 48‑75mm。反射柯勒照明搭载 12V‑100W 卤素光源，光强连续可调 1.0‑12.0V DC，内置 ND6、ND25 滤光组件。陶瓷同轴载物台 X 向行程 76mm，Y 向行程 52mm，粗调行程 25mm，微调最小刻度 1μm，最大样品高度 65mm，整机输入电压 100‑120V/220‑240V，设备重量约 10kg，多用于半导体 Wafer、Package 表面缺陷检测。
二手保养方法：设备检修需在 Class‑1000 Cleanroom 环境开展，物镜 Objective、目镜 Eyepiece 镜片仅使用光学无尘纸搭配专用试剂清洁，禁止干擦；定期校验 Focus 调焦机构阻尼，检查载物台 Stage 运动顺滑度；检查 Halogen 光源老化程度，及时更换衰减光源；接口、滤片槽做好防尘防护，闲置时加盖防尘罩；完成光学成像、视场均匀度复测，确认 DIC 差分干涉光路无偏移。
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