CTI-CRYOGENICS IS-2000V低温压缩机（Cryogenic Compressor）是半导体真空制程（Semiconductor Vacuum Process）核心配套设备，广泛应用于薄膜沉积、刻蚀（Etching）、离子注入（Ion Implantation）等高精密制程，设备参数均源自Edwards原厂产品手册及公开行业招标资料，仅供技术交流，不做商业用途。

该设备采用三相供电模式（3-Phase Power Supply），支持180–253 VAC低压、342–528 VAC高压宽幅电压输入，适配50/60Hz通用工频，额定输入功率13.5kW。设备标配水冷散热系统（Water Cooling System），标准冷却水流量需求为3.0–4.0gpm，保障长时间连续制程运行的温度稳定性。设备整机尺寸为518mm×686mm×1481mm，结构紧凑，适配半导体机台集成安装场景。

二手IS-2000V低温泵需执行标准化保养规范：定期检测水冷管路密封性与流量参数，杜绝管路结垢堵塞；每3年更换吸附器（Adsorber）耗材，维持氦气（Helium）循环纯度；常态化校验系统压力、制冷速率及超速保护（Over-speed Protection）功能，清除腔体粉尘杂质，保障真空抽取精度与设备重现性。

设备搭载智能氦气管理系统（Intelligent Helium Management System），可降低制程能耗，具备可调冷却速率、过载防护等核心功能，可稳定适配半导体微纳级精密真空制程的量产需求。

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