二手迪恩士 DNS/DAINIPPON SCREEN MP-2000 晶圆清洗机技术规格详解
作者:
海翔科技
作者机构:
海翔科技
发表时间:
2026-08-19

#半导体

迪恩士DNS/DAINIPPON SCREEN MP-2000为半导体产业主流8英寸(200mm)晶圆(Wafer)湿式清洗设备(Wet Cleaning System),广泛应用于晶圆表面颗粒去除、光刻胶残留清洗、湿法蚀刻后洁净处理等制程,设备参数源自官方设备手册及公开行业招标公示资料,仅供技术交流,不做商业用途。

迪恩士DNS/DAINIPPON SCREEN MP-2000为半导体产业主流8英寸(200mm)晶圆(Wafer)湿式清洗设备(Wet Cleaning System),广泛应用于晶圆表面颗粒去除、光刻胶残留清洗、湿法蚀刻后洁净处理等制程,设备参数源自官方设备手册及公开行业招标公示资料,仅供技术交流,不做商业用途。

该设备核心性能参数标准化、精度稳定,设备适配8英寸单晶矽晶圆量产加工,工作盘转速可调区间为200~3000rpm,清洗与甩干(Spin Drying)时序可控范围3~999s,支持精细化制程参数配比。整机搭载7英寸工业触控显示屏(7-inch Industrial Touch Screen),可实时监控设备运行状态、制程温度、工作压力及工序时长。设备物理尺寸为550mm×850mm×1250mm,适配半导体标准洁净车间(Clean Room)布局,供电采用单相工业交流电源,满足中小规模晶圆产线制程需求。

针对二手设备使用场景,标准化保养(Maintenance)方案可保障制程稳定性:日常需清洁清洗腔体(Cleaning Chamber)内部残液与微颗粒,定期校准旋转主轴转速精度、检测流体输送管路密封性;阶段性更换耐腐蚀密封件、过滤滤芯,校准人机界面参数,杜绝转速偏差、清洗液喷淋不均等异常,有效延长设备服役周期、保障晶圆清洗均匀性与良率。

该机型结构成熟、运维成本低,二手设备经规范化保养校准后,可完全匹配半导体中试及量产制程标准,性价比优势显著。海翔科技 专业提供全球二手半导体设备。


二手迪恩士 DNS/DAINIPPON SCREEN MP-2000 晶圆清洗机技术规格详解


二手迪恩士 DNS/DAINIPPON SCREEN MP-2000 晶圆清洗机技术规格详解

海翔科技 专业提供全球二手半导体设备。


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