该部件为 Endura 平台 300 mm DTESC 静电吸附加热基座（Heated Pedestal/ESC Chuck Assembly），适配 300 mm 晶圆（Wafer），用于 PVD 工艺腔室，集成静电夹持（Electrostatic Chuck）与电阻加热功能。部件版本 REV 07，零件编号 0010‑42030，配套子件编号 0200‑02936，基座介质层为氮化铝陶瓷（AlN Ceramic）基体，支持双温区控温（Dual‑Zone Thermal Control），兼容射频偏置（RF Bias）接入，实现晶圆夹持、温控与偏置耦合。

工作适配真空腔室环境，支持静电夹持电压施加，陶瓷表面具备耐等离子体（Plasma）腐蚀涂层，基座集成内置测温传感器（RTD），反馈晶圆载体温度，保障薄膜沉积工艺重复性。该二手件入库需做保养维护，保养时先做外观目视检查陶瓷盘面裂纹、崩边、涂层剥落，检测电极绝缘阻抗（Insulation Impedance），清理基座接口引脚与冷却流道接口，禁止硬质工具刮擦陶瓷工作面；完成绝缘、加热回路、静电吸附功能测试，确认无漏电、加热异常，再上机适配，老化验证温度输出稳定性。

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