该设备光学系统波长范围（Wavelength Range）为180–900nm，支持全自动波长筛选与校准。检测性能方面，火焰模式下5mg/L铜（Cu）溶液吸光度≥1.0A，火焰法相对标准偏差（RSD）≤0.5%；石墨炉模式下镉（Cd）特征质量可达0.6pg，2ppb镉溶液连续七次检测精密度RSD≤3%。设备搭载氘灯背景校正（Deuterium Lamp Background Correction）系统，分别适配火焰、石墨炉双模式检测，雾化室采用全聚四氟乙烯（PTFE）耐酸碱材质，标配撞击球与扰流器，适配半导体高纯药液腐蚀检测场景。配套长寿命石墨管可在2800℃高温下稳定使用2000次。

二手设备专项保养（Maintenance）需遵循标准化流程：定期清洁PTFE雾化室与光路透镜，避免半导体残留杂质积碳污染；每日校准波长与基线，定期更换氘灯与石墨管；恒温恒湿存放设备，杜绝光路受潮偏移，保障微量金属检测精度与设备稳定性。

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