0010-53901 为 AMAT 物理气相沉积（Physical Vapor Deposition, PVD）腔体陶瓷加热盘（Ceramic Heater），适配晶圆基底加热工艺，基材采用耐高温陶瓷基体，内置嵌入式加热回路与温度传感组件，用于晶圆（Wafer）在溅射沉积过程中的基底温度管控。该件属于 PVD 腔核心静电吸盘（Electrostatic Chuck, ESC）配套加热载体，支持真空环境下持续加热，工作温度区间覆盖室温至 400℃，温度均匀性指标满足 8 英寸晶圆薄膜沉积制程要求，内部集成热电偶（Thermocouple）采集实时基底温度，实现闭环温控。加热盘表面具备低颗粒析出特性，适配半导体真空制程环境，可承受 PVD 腔体等离子体（Plasma）环境腐蚀，真空耐受度匹配 PVD 腔体高真空工作工况。
二手设备保养方面，停机维护时禁止硬质工具刮擦陶瓷工作面，需使用半导体专用无尘擦拭介质配合异丙醇（IPA）清洁表面溅射沉积物；定期检测内置加热电阻与热电偶导通性，检查接线端子绝缘层老化情况；存放环境需维持恒温干燥，控制温湿度，避免陶瓷基材受潮与应力开裂；装机前需做真空检漏与升温老化测试，排查热区温度漂移。
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