CLEAN TRACK 为 200/300mm 晶圆（Wafer）光刻工艺专用涂胶显影设备，主流型号含 ACT™12 与 LITHIUS Pro™Z，适配 10nm 及以上制程。设备采用模块化架构，集成旋涂（Spin Coating）、软烘（Soft Bake）、显影（Development）、硬烘（Hard Bake）单元，支持 i-line、KrF、DUV 光刻工艺。旋涂转速 100–9999rpm，分辨率 1rpm，光刻胶膜厚均匀性误差≤±1.0%，边缘 bead 去除精度稳定。烘烤温度 25–220℃，控温精度 ±0.05℃，适配正 / 负性光刻胶与 SOG/SOD 材料。设备产能 inline 模式达 120 片 / 小时，搭载 SECS/GEM 协议，兼容 FOUP 载具与 FIMS 传输系统，配置 ULPA 化学过滤器与在线微粒监测模块。
二手设备保养需规范执行：每日清洁旋涂腔与化学管路，清除光刻胶残留；每周检查机械臂定位精度（≤±0.08mm），校准转速与温度传感器；每月更换化学滤芯与密封件，校验 MFC 流量与显影液浓度；每季度执行腔体湿法清洗，排查电气连接与真空泄漏，保障制程稳定性。
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