二手泛林 LAM RESEARCH 2300 Etch Transport Module 脉冲刻蚀传输模块技术规格详解
作者:
海翔科技
作者机构:
海翔科技
发表时间:
2026-06-18

#半导体

本模块为 2300 系列 Etcher 配套 VTM(Vacuum Transport Module,真空传输模块),适配 300mm(12 英寸)Wafer,供电规格三相 208VAC,电压波动耐受 ±15%,适配 50/60Hz 工频,整机满载电流 35A,主断路器额定电流 320A,符合 SEMI S23 洁净安全标准。传输单元搭载 Dual arm effector(双机械臂),晶圆定位精度 ±0.1mm,单枚晶圆腔室交换时长<8s,系统整体 Throughput(吞吐量)最高 120 片 / 小时,晶圆寻边 Notch 识别误差<0.05°。真空系统基础抽背压力 80mTorr,传输腔静态泄漏速率≤0.1Pa/s,腔内壁采用阳极氧化铝陶瓷涂层,配套 MKS 真空压力计,量程覆盖 100–10000mTorr。机械臂吸盘采用 PI(聚酰亚胺)材质,耐温 250℃,年吸附力衰减低于 5%,传动皮带循环寿命 10 万次,整机 MTTR(平均修复时长)<30min,设备综合利用率>95%。温控系统搭载 Pt100 热电偶,PID 闭环控温精度 ±2℃,管线伴热功率 300W/m,超温 10% 自动切断动力回路,信号传输采用光纤 + RS485 双链路,功率输出波动稳定 ±1%。

本模块为 2300 系列 Etcher 配套 VTM(Vacuum Transport Module,真空传输模块),适配 300mm(12 英寸)Wafer,供电规格三相 208VAC,电压波动耐受 ±15%,适配 50/60Hz 工频,整机满载电流 35A,主断路器额定电流 320A,符合 SEMI S23 洁净安全标准。传输单元搭载 Dual arm effector(双机械臂),晶圆定位精度 ±0.1mm,单枚晶圆腔室交换时长<8s,系统整体 Throughput(吞吐量)最高 120 片 / 小时,晶圆寻边 Notch 识别误差<0.05°。真空系统基础抽背压力 80mTorr,传输腔静态泄漏速率≤0.1Pa/s,腔内壁采用阳极氧化铝陶瓷涂层,配套 MKS 真空压力计,量程覆盖 100–10000mTorr。机械臂吸盘采用 PI(聚酰亚胺)材质,耐温 250℃,年吸附力衰减低于 5%,传动皮带循环寿命 10 万次,整机 MTTR(平均修复时长)<30min,设备综合利用率>95%。温控系统搭载 Pt100 热电偶,PID 闭环控温精度 ±2℃,管线伴热功率 300W/m,超温 10% 自动切断动力回路,信号传输采用光纤 + RS485 双链路,功率输出波动稳定 ±1%。

二手设备保养规范:存储环境维持 20–25℃、湿度 40%–60%,氮气密封避光存放;每月执行机械臂空载循环测试,无尘布搭配无水乙醇擦拭关节与光学传感器;每季度拆解真空密封件,更换老化氟橡胶密封圈,检测腔室泄漏;每年更换传动皮带、晶圆吸盘,校准机械臂定位零点,全程佩戴防静电手环执行 LOTO 断电挂牌操作,留存设备运行、真空、温度检测台账。

 

二手泛林 LAM RESEARCH 2300 Etch Transport Module 脉冲刻蚀传输模块技术规格详解

 

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