二手日立 HITACHI DD-1223V 扩散炉技术规格详解
作者:
海翔科技
作者机构:
海翔科技
发表时间:
2026-06-26

#半导体


本机为 Vertical 立式 300mm(12 英寸)Diffusion Furnace 扩散炉,搭载 Zeston-III 六段独立温控加热区,工艺温度区间 680℃-1250℃,恒温区温度稳定性 ±1℃,最大升温速率 20℃/min、降温速率 9℃/min,单石英 Boat 标准载片量 100 片 300mm Wafer。整机配套 CX3010 工艺控制器,支持多组 PID 参数存储、SECS/GEM 产线通讯,多路 MFC Mass Flow Controller 精准管控 O₂、N₂、H₂、Dichlorosilane 等工艺气体,适配 Thermal Oxide 热氧化、离子扩散、Metal Anneal 金属退火、钴硅化物制程。供电规格分 208V 单相、440V 三相双模式,内置水循环 PCW 冷却系统与 OTCD 过温切断保护,炉腔配微粒拦截滤网、石英防溅射护罩,自动舟传送 Robot 实现无人工上下料。

二手设备分级保养规范:每日巡检冷却水流量、气路检漏;每周吹扫炉管入口微粒过滤器,校准 MFC 气体流量零点;每月校验六区热电偶温度偏差,清洁舟传动轨道润滑;季度拆解炉口密封件更换氟橡胶垫圈,氮吹净化炉腔内壁污染物;年度整体高温烘炉除气,检修加热丝绝缘、传动伺服电机,规避温区偏移、气体配比失准、颗粒超标等二手设备通病。

来源合规声明:仅供交流,不做商业用途;参数溯源国际半导体设备交易平台 CAE 官方设备备案、原厂 KOKUSAI 产品公示资料。

二手日立 HITACHI DD-1223V 扩散炉技术规格详解

二手日立 HITACHI DD-1223V 扩散炉技术规格详解


海翔科技 专业提供全球二手半导体设备


免责声明(Disclaimer)

一、内容溯源与适用范围(Source & Scope of Application)

本文全部技术参数、结构原理、机型适配及对比数据,均源自设备原厂官方资料、权威标准文献及公开招标验收文件,仅用于技术研究、方案对比及行业参考,不作任何商业用途。

二、内容效力与权责界定(Validity & Liability Definition)

本文观点与结论为通用技术参考,非设备原厂官方定论,不构成任何商业承诺、履约标准及验收依据,未经原厂实测核验,不得用于项目验收、举证追责。

三、风险承担与合规说明(Risk Assumption & Compliance Statement)

使用者擅自套用、篡改本文内容产生的一切风险与法律责任,由使用者自行承担,本文作者及所属单位不承担任何连带责任。若存在版权及侵权异议,将及时核实整改。