本型号 Heater Pedestal 适配 AMAT Endura PVD（物理气相沉积）工艺腔，兼容 200mm 硅晶圆（Wafer），主体为高纯度 AlN（氮化铝）共烧结一体化结构，集成内置 Heating Element 与 TC（Thermocouple 温度传感组件）。额定供电 AC 208V，标准运行功率 3.2kW，短时峰值功率 3.8kW；温控区间覆盖室温至 450℃，稳态控温精度 ±0.2℃，盘面全域温场均匀性控制在 ±0.4℃以内，升温速率标准工况 6℃/min，最大线性升温速率 10℃/min。盘面平面度≤0.02mm，内置 ESC（Electrostatic Chuck 静电吸附）电极，支持直流吸附稳压 0–1500V，绝缘耐压 1800V 无击穿，真空适配度可达 1×10⁻⁷ Torr，MTBF 原厂标定 100000 小时，耐卤素工艺气体腐蚀，低金属析出污染。
二手设备专项保养规范：设备降温至 40℃以下方可拆腔，仅采用电子级 IPA（异丙醇）搭配无尘布擦拭盘面，禁用硬质工具打磨陶瓷表层；每累计运行 200 小时多点 TC 温度校准，每季度检测电极绝缘阻抗；长期闲置需真空封存并放置分子筛干燥剂，升降温速率不得超原厂限值，规避热应力开裂；装配时按原厂扭矩规范锁紧接线端子，杜绝漏电、温漂故障。
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