本款 0010-64237 为 Centura 工艺腔配套 Ceramic Heater Pedestal（陶瓷加热基座 / 加热盘），适配 200mm Wafer（200 毫米晶圆）制程腔体，基材采用高纯氧化铝陶瓷（Alumina Ceramic）一体式烧结成型，内部预埋多回路镍铬合金（NiCr）加热丝，集成内置 R 型热电偶（Thermocouple）测温通道。额定工作电压为 208V AC 单相供电，整体加热功率区间 1200W-1600W，极限持续工作温度 450℃，稳态控温均匀性≤±3℃，升温速率标准设置 3℃/min，峰值短时升温速率不超过 5℃/min；基座底部集成真空密封接口、Heating Power Terminal（加热供电端子）与测温信号接线柱，适配高真空（High Vacuum）工艺环境，耐受腔体内等离子体（Plasma）与微量工艺化学气体腐蚀，盘面预留三组晶圆顶针通孔（Lift Pin Hole），表面等离子喷涂绝缘防护层，绝缘阻抗常态下≥100MΩ。
二手部件专项保养方法：停机冷却至常温后，使用高纯异丙醇（IPA）配合无尘擦拭布清洁盘面工艺沉积物，禁止硬质工具刮擦陶瓷层；每季度检测加热回路绝缘电阻与热电偶阻值，出现阻值漂移需校准信号线路；长期存放需置于恒温干燥氮气柜，避免水汽侵蚀接线端子；上机前需分段阶梯升温烘烤 2 小时去除内部吸附水汽，防止通电绝缘击穿；拆装全程轻拿轻放，规避陶瓷基材磕碰崩边。
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