本机为 MALDI-TOF（Matrix-Assisted Laser Desorption/Ionization-Time of Flight）基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱仪，适配半导体 Polymer（高分子聚合物）、Oligonucleotide（寡核苷酸）、晶圆表面有机污染物检测。激光单元采用 337nm N₂激光器，重复频率 0–50Hz 近轴激光照射，加速电压 ±20kV 可切换，飞行管长度 1200mm，搭载专利弯曲场反射器（Curved Field Reflectron）。质量范围线性模式 m/z 1–500kDa，反射模式 m/z 1–80kDa；线性模式分辨率＞5000 FWHM（ACTH 18-39），反射模式最高 20000 FWHM（ACTH 7-38）；反射模式内标质量精度＜5ppm，线性模式内标精度＜30ppm，MS/MS 模式质量精度＜150ppm。检测器采用 MCP 微通道板，MS/MS 配备 20keV 高能 CID 碰撞池，氦气作为碰撞气，母离子分辨率＞400 FWHM，反射模式灵敏度 250amol（Glu-fibrinopeptide）；兼容 48 孔、384 孔金属靶板（Target Plate），支持自动化样品前处理设备联动。
二手设备保养要点：每日测试结束后维持真空机组运行 30min，排出腔体基质挥发物，无尘纸蘸无水乙醇擦拭靶仓密封胶条与光学窗口；每 500 片靶板完成后放空真空，拆解离子透镜、推斥极超声清洗，更换真空机组滤芯与浑浊泵油；闲置状态每周开机抽真空 1h，环境控温 15–28℃、湿度 20%–60%，规避半导体车间酸碱挥发气体腐蚀核心光路组件；每次深度维护后执行整机调谐，校验分辨率、质量轴偏移，保障半导体微量有机物检测稳定性。
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