本机型为面向 200mm Wafer 检测的正置工业金相显微镜，搭载 CFI60-2 无限远光学系统，仅配置 Epi 反射照明，适配硅晶圆（Silicon Wafer）、光罩（Reticle）、半导体基板缺陷检视。整机供电规格 100–240V AC，额定电流≤1.2A，整机自重约 30kg，适用环境温度 5–35℃，相对湿度不高于 85% 且无凝露。调焦总行程 29mm，粗调 12.7mm / 圈，微调 0.1mm / 圈，最小刻度 1μm；标配六孔物镜转换器，支持 Brightfield、Darkfield、简易偏振（Simple Polarization）、微分干涉（DIC）多种观测模式。载物台适配最大 8 英寸（200mm）晶圆，机身、载台、目镜筒全部采用防静电涂层，规避静电损伤半导体器件；光路内置对焦辅助插片，改善低对比度晶圆表面对焦效率，可选配 12V50W 卤素光源或者 LV-LL LED 照明模组。

二手设备运维方面，需维持无尘恒温工作环境；光学镜片仅使用吹尘球与专用镜头纸清洁，禁止徒手触碰镀膜面；定期润滑调焦机构，核查防静电涂层完整性；光源组件按时检修，避免频闪影响缺陷观测；长期停机配备防尘罩，放置干燥剂防止镜片霉变，每半年开展一次光路与载台精度复检。

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