二手 TOKYO SEIMITSU A-WD-300TX 晶圆切割机技术规格详解
作者:
海翔科技
作者机构:
海翔科技
发表时间:
2026-07-28

#半导体

本设备为东京精密 ACCRETECH/TSK 出品的全自动 Dual Spindle 双主轴 Wafer Dicing Saw 晶圆切割机,适配 200mm\300mm(8 英寸~12 英寸)标准硅基晶圆切割制程,兼容陶瓷、氧化铝、石英等多种半导体基板切割。整机采用双 X 轴丝杠驱动架构,配备 12 工位旋转载台,可锁定 0°\90° 区间五组切割角度,支持 Scribing 划片与 Dicing 全切两种工艺模式;主轴采用高效水冷冷却结构,额定转速区间 6,000rpm~60,000rpm,搭载金刚石切割刀片,全域切割精度 ±3μm,Y 轴最小分辨率 0.0001mm,可满足芯片 Chipping 崩边量严苛管控要求。

本设备为东京精密 ACCRETECH/TSK 出品的全自动 Dual Spindle 双主轴 Wafer Dicing Saw 晶圆切割机,适配 200mm\300mm(8 英寸~12 英寸)标准硅基晶圆切割制程,兼容陶瓷、氧化铝、石英等多种半导体基板切割。整机采用双 X 轴丝杠驱动架构,配备 12 工位旋转载台,可锁定 0°\90° 区间五组切割角度,支持 Scribing 划片与 Dicing 全切两种工艺模式;主轴采用高效水冷冷却结构,额定转速区间 6,000rpm~60,000rpm,搭载金刚石切割刀片,全域切割精度 ±3μm,Y 轴最小分辨率 0.0001mm,可满足芯片 Chipping 崩边量严苛管控要求。

设备电气输入为三相 AC200V\220V 工业供电,整机采用纯水切割冷却架构,切割水压力 0.3MPa\0.5MPa,配套 DI Water 去离子水过滤循环系统,满足洁净制程颗粒管控要求;整机集成 ESD 静电释放防护回路,符合半导体 Fab 洁净车间 ISO Class 3 粉尘等级标准。

二手设备分级保养规范:每日使用高纯氮气吹扫主轴法兰、载台表面硅屑颗粒,检测切割水流量与电阻率,开机空载校验主轴旋转振动值;每周清理切割室过滤网、水循环管路滤芯,校准光学对位系统像素基准;每月拆解 Z 轴丝杆清洁加注洁净专用润滑脂,复测全轴定位精度;季度更换主轴冷却循环水,检测刀片法兰端面跳动量;年度拆解主轴轴承更换密封件,整机满负载切割测试校准,修复定位漂移、崩边超标、水


二手 TOKYO SEIMITSU A-WD-300TX 晶圆切割机技术规格详解


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