东京电子扩散炉 TELFORMULA-1S-H 用于半导体制造，能精确控制工艺参数，实现杂质扩散、氧化等功能。可在晶圆上形成特定的掺杂分布和氧化层，应用于晶体管制造、集成电路生产等工艺。