东京电子反应腔 TEX-061 用于半导体制造工艺。其功能是为刻蚀、沉积等工艺提供精确可控的反应环境，通过精确控制气体流量、压力和温度等参数，实现高质量的薄膜沉积和精细的刻蚀，以制造先进的半导体器件。