东京电子蚀刻机 T-3055DD 是一种低温蚀刻设备，能在 - 70℃环境下工作，可快速蚀刻深孔，33 分钟内蚀刻 10 微米，采用氟化氢气体更环保，主要应用于 3D NAND 闪存芯片制造，有助于提升芯片性能与生产效率。