TOKYO ELECTRON LIMITED ALPHA - 303i - K 扩散炉可精确控制温度、气体流量等参数，能实现高温扩散、氧化、退火等工艺。应用于半导体制造领域，用于晶圆的杂质扩散、薄膜生长等，以制造高性能的集成电路器件。