ASM AMERICA 镀膜机腔体 PULSAR 3000 采用 ALD 技术，能精确控制薄膜生长，实现原子级别的厚度精度和均匀性。主要应用于半导体制造，用于沉积高 k 电介质、金属栅极等薄膜，以满足先进芯片制造工艺的需求。