EOWAROS 表面清洗设备 SCU-1500 专为精密制造场景设计，采用真空吸附与超声波协同清洗技术，可去除微米级颗粒及有机物残留。设备集成多级过滤系统，支持 IPA / 去离子水混合清洗工艺，适用于半导体晶圆、光学镜片、医疗器械等高精度表面处理需求。其模块化设计兼容 12 英寸晶圆及异形工件，具备氮气干燥功能，广泛应用于电子封装、航空航天部件清洗等洁净环境2930。