ASML 2500/40是由领先的半导体设备制造商ASML开发的先进晶圆步进器。它旨在优化用于制造集成电路和微处理器的光刻工艺。步进器具有快速响应、精确移动、高模式精度和减少循环时间的特点,使芯片制造商能够进一步提高其设计的尺寸、速度和复杂性。ASML 2500/40具有245mm扫描字段、56nm的有效分辨率和每小时1400晶圆的吞吐量。它与所有主要的掩模尺寸和材料兼容，能够0.18°弧秒可重复性和0.8nm精度。该设备采用ASC 200 Z-tilt技术，允许面罩级水平、垂直和旋转运动，以提高工艺性能。步进的紧凑型DUV照明系统使用DUV/157nm辐射，实现高分辨率成像，同时减少功耗和足迹。它包括光学单元、光学路径、投影透镜、狭缝、光束偏转器等先进的光束传递元件。狭缝组件提供红外光保护，设计用于极端温度条件。2500/40在网络环境中运行,并配备了基于Web的图形用户界面（GUI）。这样可以轻松访问和调整设置,以实现最大的流程控制和正常运行时间。该机还具有工具管理和数据分析功能，可追溯和质量控制。2500/40是一种可靠且高度先进的晶圆步进器,旨在支持功能尺寸不超过56nm的复杂设备结构。ASML 2500/40采用双级校正技术、高度精确高效的照明工具和先进的工具管理功能,以最低的每晶圆成本提供了前所未有的性能水平。