ASML 5500/60是半导体生产中用于光刻的晶圆步进器。它是一种高度精确的自动化成像设备，用于塑造半导体芯片表面的集成电路和其他微观特征。这台机器基本上是一台大型显微镜，用于将电路和其他模式精确地暴露在晶片基板上。光掩模对齐并聚焦在主体晶片上，并通过石英光窗有选择地用光源曝光。产生这种模式所需的精确度需要错综复杂的对齐和巨大的精确度，5500/60配备了一系列技术来实现这一目标。ASML 5500/60配备压电直线级机构，以微米级分辨率提供平滑的线性运动。几种补偿方法和传感器使精密运动成为可能，包括编码器辅助级控制器、干涉级步进和光电聚焦检测，所有这些都使机器能够将图样精确传输到晶圆上。该系统还配备了自动对准装置，将掩模与晶片进行比较，以确保准确放置。在处理过程中,5500/60具有各种光源、数值孔径和曝光时间,可轻松配置和调整。机器进一步配备了一个平行于基板表面移动的专门层流级，增加了水平，并允许光学器件通过不同深度的可变悬垂。ASML 5500/60还配备了强大的安全功能,例如紧急关闭系统和自动检索功能,这些功能可以在发生任何干扰晶片传输的情况下将对象晶片快速带回起始位置。其他功能还包括图形用户界面、内置绝缘和环境控制、主动减振以及用于增强质量控制的曝光后图像分析。总之，5500/60是一种用途广泛、精密的晶圆步进器，用于塑造半导体芯片表面的集成电路和其他微观特征。该机器配备了一系列复杂的运动、对准和安全功能,所有这些功能都可以实现高效的协作光刻工艺。