CANON FPA 121是用于半导体制造光刻工艺的晶圆步进器。它是一款具有8英寸（200毫米）晶圆尺寸的先进、高性能的步进重复曝光设备。FPA 121具有较高的数值孔径（0.75），以提高分辨率和改进蚀刻。动态扫描系统（DSS）通过使用移动镜像扫描舞台来实现快速、高精度的模式传输。这项技术还确保了晶片上的精确放置和对齐，无论其特性或图样数量如何。CANON FPA 121具有单波长照明单元的1.4 Wspm（晶圆每小时）的增加吞吐量，且性能一致，即使在高吞吐量下也是如此。它还提供了自动曝光控制、点对点缝合以及对整个晶圆表面快速扫描等先进技术。FPA 121有一个减少遮罩基板变形的拱形遮罩卡盘和一个先进的遮罩对准器，测量范围广泛，为175 µm。它还具有低污染的离子植入器选项和六轴角表。先进的步进器提高了32nm的分辨率，使图桉能够被精确快速地蚀刻。它还具有高性能自动检测（API）机，可以提高缺陷定位精度和检测速度。CANON FPA 121有一个快速进场单元，可以在X、Y和Z轴的两个点之间快速移动，允许高精度的掩码布局。几个模块可以组合在一起，形成一个单步重复的工具，使其适合各种生产线应用。综上所述,FPA 121是一种高性能的重复曝光资产,它提供了独特的功能,如高数值孔径、动态扫描模型、增加的吞吐量、先进的技术、低污染、改进的分辨率和快速进场单元。适用于各种半导体生产线，设计提供精确、快速的图桉蚀刻。