ASML PAS 2500/40是一种晶片步进器，用于在半导体晶片上对光刻胶薄层进行精确图样绘制。该机能够实现+/-15nm的精度和5nm的横向分辨率,非常适合前沿光刻应用。ASML PAS 2500/40利用高度自动化的专有照明设备和先进的光学器件来生成其模式。该系统采用投影式照明装置，采用宽带、高功率光源和高NA透镜，向晶片精确地传递相干光束。光束通过分束器和光学器件定向,以精确绘制晶圆的图案。该机还具有ASML高效的Advancedzoom模式，可优化曝光区域的照明场。这保证了光照均匀，适合晶片的光敏层。它还有助于提高准确性、可重复性和生产率,因为无论基板尺寸如何,图像均匀性都将最大化。为了确保精确的光刻结果，PAS 2500/40还具有先进的对准和校准能力。该装置采用先进的晶片对准、射击对准和数字曝光过程控制机。这些特性共同设计为确保每个模式都能准确创建，并且晶圆可以很容易地从一个曝光站转移到另一个曝光站。该工具可以灵活地暴露各种具有各种暴露条件和暴露分辨率的基板。此外,PAS 2500/40能够在曝光和特征大小之间快速切换,从而确保高效的处理和快速的流程周转。ASML PAS 2500/40还能够控制暴露剂量，从而确保传递到晶圆的暴露剂量是适当和一致的。这样可以提高曝光过程的准确性,减少返工需求,并提高工具可用性。此外，该机器还包括自动化的数据收集资产和安全的数据存储，允许用户访问晶圆曝光和完整性方面的数据。综上所述,ASML PAS 2500/40是一种先进的晶圆步进器,它结合了精度和精度来提供高价值的光刻解决方桉。它的特点使得它特别适合半导体行业和其他需要精确曝光和调整的行业的制造任务。