ASML AT-850C是ASML先进的基于步进的光刻设备。它具有扫描曝光系统（SES）,能够以高分辨率快速准确地扫描大字段。ASML AT850C用于生产用于消费电子产品的小型电路如VLSI、半导体和集成电路。该单元的核心是ASML专有的LTS 800 Scanning Exposure Machine,其设计目的是提供精确度和灵活性。该工具提供了改进的成像性能、提高的速度、改进的图像场大小和改进的图像质量。SES具有12英寸的扫描字段,最大分辨率为65nm,动态范围为16位。曝光控制资产（ECS）的设计符合将多个光刻层合并到同一曝光中的最高操作标准。AT:850C提供了一个先进的自适应对准模型，以加强曝光的准确性。该设备能够保持0.5 μ m的亚像素精度,并能够补偿振动、倾角和不均匀薄膜厚度引起的变形。此外,Auto Exposure Analyzer （AEA）位于系统中,可提供详细的对齐信息,如字段大小、曝光级别、镜头大小和边缘位置。这是除了签名波形监测，以确保长期的过程稳定。AT850C还配备了几个环境传感器，旨在保护设备免受可能干扰成像过程的尘埃颗粒的影响。这些传感器包括温度传感器、高电流监视器和湿度监视器。这样可以确保机器正确地被污垢和污染物密封,并允许机器在清洁的环境中运行。该机还包括一个先进的冷却工具，以确保可靠性和寿命。这是通过在资产内循环冷却的液体和空气，增强曝光模型的性能，消除操作过程中散热来实现的。总之，AT 850C是一种设计用于生产高端集成电路的高度先进的晶圆步进器。它具有扫描曝光设备（SES）和用于精确成像过程的曝光控制系统（ECS）。它还带有一个自适应对准单元和一个签名波形监控器，以保持高精度和长期的过程稳定性。最后，该机包含一个防尘工具和冷却资产的最佳和可靠的操作。