ASML XT 1250D是一种用于深紫外光刻工艺的晶圆步进器.机器最多协调三个光学元件，包括激光器、标线和透镜，以创造出单位数纳米精度的精密微芯片图桉。它提供了业界领先的照明均匀性和快速扫描时间与优越的动态光束控制。XT 1250D由最大速度为7mm/s的1600 mm方框组成。设有隔振、三套闭环空气轴承系统、Z-bus集成。该产品还可以在保持15纳米精度的同时，进行高达420厘米的长距离扫描。此外,还可以定制刀具,以处理直径从125mm到300 mm的各种晶圆尺寸。ASML XT 1250D上的光学阵列模块包含四个主要目标和两个子目标以及一个标线目标。它配备了特殊的2X 0.5 NA 0.400 AR1,可在整个晶片上提供均匀的辐照度。再者，在物体和瞳孔之间放置液晶（LC）透镜，根据应用的需要调制光线。XT 1250D旨在为各种处理阶段提供性能和精度。它具有独特的动态光束控制（DBC）系统,可实现更高的帧速率和更快的曝光时间。此外,该产品还能够生成小至20 nm的功能,是当今先进半导体工艺的理想选择。ASML XT 1250D是业界领先的尖端设备,通常在大批量生产设施中使用。它兼具性能、精度和可靠性，是先进光刻工艺的理想选择。