ASML XT 1250B是半导体工业中为光刻设计的晶圆步进器。它提供了有效的模式转移到半导体晶片，提高了设备性能和生产率。这种晶片步进器使用多种透镜技术，将成像光束精确聚焦到晶片表面，允许精确放置和复制图样。ASML XT:1250B平台可以利用先进的镜头技术，如EUV/DUV和多个曝光领域。这是一个双级晶片步进器，使用专利的双级真空系统，以适应不同的基板尺寸的柔性设备生产。它采用模块化设计构建,可以快速配置和重新配置,以实现大批量生产。此外，XT 1250B利用亚微米高分辨率投影光学系统，使其能够产生线宽在0.2-1.2 µm范围内的图桉。该晶片步进器配有真空/差分加载系统和相机自动对焦，将成像物镜和相机镜头结合在一起，具有独特的高精度对准配置。它旨在减少粒子生成，改善各级之间无污染成像的平衡。XT:1250B还具有低噪声步进控制器和电机驱动器,为精确的基板定位提供可靠的内频。ASML XT 1250B还能够执行密集的模式迭加对齐，利用图像处理软件进行图像比较和测量控制。这台机器的设计目的是通过使用高级图像分析来减少放置差异。综上所述，ASML XT:1250B是一个强大的晶圆步进设计光刻。它的双级设计、先进的成像光学技术和优化的传感器系统使它能够以最小的污染和更高的检测精度产生精确的模式。这种机器的高效加工既适合大批量生产，又适合精密的设备制造。