ASML XTII/ 1400F是晶圆步进器，一种用于微电子工业生产半导体器件的设备。它是一种先进的光刻工具，使用紫外线光束将图样从标线连续转移到感光基板上。XTII/ 1400F是KrF步进器，意味着它利用248 nm波长的高能KrF准分子激光投射图样到涂有特定光敏物质的晶片上。这一过程被称为步进重复光刻。步进器包括几个关键组件，包括照明源、投影光学元件、标线级、晶片级和扫描仪。ASML XTII/ 1400F的光源是KrF准分子激光器。这种激光通过标线面罩中的一个狭缝孔径发出一束紫外线。光束穿过与标线上所需图桉相对应的孔径。然后,透镜系统将光引导到目标基板上。XTII/ 1400F的标线级允许将标线相对于晶圆精确定位，以精确对准光学图像。晶片级允许晶片相对于投射到其上的光学图像精确运动。该扫描仪由两个聚焦反射镜和两个检流计反射镜组合而成，用于在基板上精确扫描标线图桉的磁场。ASML XTII/ 1400F的运行速度高达每小时4个晶圆，分辨率低至140 nm。它具有10mm至200mm的宽幅图桉场大小，适合在不同基板上产生各种尺寸的图桉。步进器可以容纳多个基板，并提供重新编程的灵活性，以适应众多不同的应用。XTII/ 1400F为确保在基板上精确的图样放置和均匀性，配备了可编程空间失真校正、对准摄像头、迭加、舞台振动控制以及精密的计算机控制平台等众多功能。这些功能使ASML XTII/ 1400F成为半导体、科学和医疗行业应用的理想选择。