ASML XTII/ 1400F晶片步进器是一种高度专业化的光刻设备，用于半导体制造。它是一种最先进的工具，用于在硅芯片上创建高度复杂的纳米级结构。XTII/ 1400F是一个步进扫描系统，使用离轴成像技术在基板上创建纳米尺度特征。它的数值孔径（NA）为0.77,使其能够打印低至28nm线宽和16nm间距的特征。该机装有大直径14英寸的全场标线，图桉密度为3.2兆pens/cm2。这样可以实现高吞吐量和从打印到打印的出色均匀性。ASML XTII的系统体系结构具有两个独立的扫描轴,可以缩短曝光时间。其曝光场大小为8 "x 8"，高画幅精度为+/-0.1 um。该机还包括重新映射算法和模式识别系统，以确保对齐精度和提高吞吐量。ASML XTII/ 1400F由ASML TwinScan技术提供支持,它提供了高效且可重复的过程。这项技术允许机器实时调整剂量、聚焦和对准等暴露参数。此外，TwinScan™还允许用户编程可定制的配方，以及优化晶圆吞吐量和工具生产率。XTII/ 1400F晶片步进器带有直观的用户界面,可直接轻松访问基本功能和设置。该机器允许即插即用操作,这意味着它只需要最少的操作设置即可。此外,还可以轻松配置它,以便在蚀刻和清洁过程中使用。总体而言,ASML XTII/ 1400F晶片步进器提供了一个强大的光刻平台,具有无与伦比的图像质量和均匀性。对于寻求高吞吐量、可重复性能和灵活操作的芯片制造商来说，这台机器是一个理想的选择。