CANON FPA 2500 i2是适用于所有纳米加工和半导体工艺的最先进的高性能投影步进器。它专为生产满足最高质量要求的极其精确的光掩模而设计。CANON FPA-2500I2采用高精度、专利的真空夹紧机构，可支撑200毫米硅片。该机制提供了一个几乎静态的环境，确保了最高水平的准确性和可重复性。该单元配备了一个集成的同轴结构光反射照明设备，它允许在整个视场有效的光均匀性。CANON FPA-2500 I2具有分辨率为2.5nm的可变数值孔径光学器件，是半导体晶圆制造的理想选择。它还配备了低失真球面物镜，使得实现快速步进聚焦速度成为可能。此外,此步进器还具有先进的快速扫描光刻系统,可减少处理时间并提高吞吐量。它还具有先进的抗振技术，例如大型阻尼底座，以帮助消除操作过程中的任何振动。最后，FPA-2500I2是建立一个高响应控制单元，允许简单和高效的操作。这种控制机器设计了一个用户友好的界面，使其易于使用。它还提供有关所有设置（如层厚度和曝光设置）的详细信息,以确保输出的质量一致。总体而言，FPA-2500 I2是纳米加工和半导体工艺的杰出步进器。它确保了满足最高要求的高精度精度、重复性和吞吐量。其先进的设计、快速的扫描光刻工具、低失真光学和用户友好的界面使得它成为任何半导体应用的理想选择。