ASML AT400S Wafer Stepper是一种光刻工具，用于制作图样并将其转移到半导体基板上。这种步进器有许多特点，使其成为光刻过程的重要组成部分。AT400S具有可调的光斑尺寸,可实现高分辨率成像并提高覆盖精度。机器的步进重复能力允许在同一晶圆上进行多次曝光，从而能够同时产生多种不同的设计。ASML AT400S还配备了自动晶片对准设备,可以将晶片更精确地放置到步进器上,从而使基板的阵列更加精确。此外,步进器能够高速曝光,周期时间小于5分钟,从而为操作员提供快速周转时间。在安全方面，AT400S设计有一个封闭的对准和接触区域，进一步提高用户的安全，并保护机器免受微粒污染。机器还具有疏散功能，可以将光刻过程中产生的任何颗粒或污染物拉走，并通过机械装置将其扔掉。ASML AT400S成像系统由光学透镜组合和"白光"光源两部分组成。这种组合允许清晰的图样图像，分辨率高达0.05微米，数值孔径为0.75。"白光"光源是AT400S特有的强大光源，确保图像尽可能清晰、精确，进一步提高了光刻工艺的效率和准确性。ASML AT400S也是最先进可靠的光刻工具之一。该机器有一个用于监测和控制曝光过程的内置测量单元，以及一个激光晶片定心机，允许晶片在基板上自动定心。有了这些能力，AT400S有潜力提供极其精确的图桉，从而大大提高了光刻工艺的性能和精度。总体而言，ASML AT400S晶圆步进器是制作和转移图样到基板上的理想工具。其可调的光斑尺寸、自动化晶片对准工具和高速曝光能力为用户提供了一系列不同光刻工艺的选项，使其成为光刻工艺的重要组成部分。