ASML XT 1250D是一种全场步进扫描设备，用于半导体晶片的大体积光刻。它以XT 1200系列架构为基础，提供一系列的应用以适应各种客户的光刻需求。该机器能够产生具有先进覆盖和过度曝光控制的高密度模式。它旨在提供高吞吐量、低拥有成本和卓越的吞吐量性能。XT 1250D具有最先进的光学系统,具有较高的数值孔径,提供卓越的分辨率和图像质量。它可容纳三种类型的光刻胶，用于单次、双次和三次曝光。它还具有先进的晶圆处理单元，具有内置的安全和容错功能。步进器设计为保持高机械完整性和稳定性，并配备了人性化的诊断和控制系统。该机还具有先进的舞台和成像控制机,可实现高吞吐量、稳定的阵列和快速的视场交换。由于先进的激光对准和维护功能,光刻光学技术提高了性能。该工具高度自动化,可以轻松执行单场到多场的曝光。分级轨迹控制基于高精度扫描伺服和激光对准，实现了快速、精确的对准。ASML XT 1250D的嵌入式软件和体系结构是为了保证高性能、重复性和均匀性而编程的。它提供可靠的数据管理和易于访问的过程参数,以节省时间。还可以集成外部硬件,以改善环境和热稳定性。该机还提供了可扩展的输出功率以实现最佳剂量控制。总体而言,XT 1250D是一种功能强大、高精度的步进扫描资产,可通过精细的光学控制处理一系列光刻过程。其先进的光学器件可以处理广泛的曝光范围，嵌入式软件提供用户友好的操作、快速的吞吐量和可靠的模式。