VARIAN/VEECO GEN II是一种分子束外延（MBE）设备，经过优化，可生产多种光电和电子材料。它提供了最先进的模块化设计,允许进行简单的配置更改。它提供了一个高级控制系统，提供了一个增强的过程参数的控制。它具有广泛的沉积材料的能力，包括半导体材料如氮化氙（GaN）、砷化氙的的脱碳（InGaAs）、砷化的脱碳（GaAs）和磷化的脱硫（InP），以及金属如金和铝。此外，该装置能够进行几种先进的材料沉积技术，如离子束辅助沉积 （IBAD），其中使用专门设计的离子束对材料进行剖析和形成，吸附控制沉积，确保材料只沉积在裸露表面的技术，以及金属辅助化学蚀刻 （MACE），一种创新技术，可用于创建多种基于纳米结构的模板。VEECO GEN II机还配备了几个先进的诊断系统，可以用来监测和评估沉积材料的质量。这些包括原位反射法和扫描电子显微镜图像。该工具还与自动晶圆监测资产集成在一起。这样可以进行实时晶片分析和质量控制,从而实现最佳的材料沉积性能。VARIAN GEN II模型还提供了电弧探测器、气体浓度和探测器监测器以及安全互锁设备等多种安全功能。这些功能旨在保持操作员和研究人员的高度安全。GEN II系统是生产光电电子材料的强大灵活平台。其先进的控制单元保证了工艺参数的保持，以达到最佳的材料沉积性能。它具有储藏广泛材料的能力，这使得它适合许多不同的应用。此外，该机配备了几个先进的诊断系统，提供了材料沉积质量的综合分析，以及众多的安全特性。