分子束外延（MBE）是一种用于制造纳米级结晶材料的工具。VARIAN/VEECO UHV MBE设备设计用于将复杂的薄膜材料沉积在多种底物上，允许通过分子生长产生复杂的异质结构。通过将常规分子束源（如积液池和电子束喷枪）的组分与高温、高真空系统的组分相结合，实现了较高的沉积速率和均匀性。VEECO UHV MBE单元的核心是超高真空（VARIAN UHV）室。里面是一个底压小于10-7 Torr，温度范围高达1200 °C，能够容纳直径高达6英寸尺寸的基板的环境。这样的条件对于分子束沉积的处理是必不可少的.除特高压室外，VEECO MBE机还设有一套分子束源，包括双枪电子束枪、蒸发池和溅射源。双枪电子束枪设计用于低温沉积，蒸发电池用于高温精度。溅射源提供了更多样化的沉积能力。通过控制源的参数，VARIAN/VEECO UHV MBE工具能够创造几乎无限种类的薄膜和/或异质结构。提供直流和射频输入的单独电源资产为电源供电。这有助于确保材料的准确沉积。进一步支持该过程的是一系列自动化组件,如定位器、自动样品旋转系统和质量流控制器。这些组件使用户能够准确选择所需的基板并保持对增长过程参数的精确控制。最后,VEECO UHV MBE模型安装在坚固耐用的符合人体工程学的外壳中,为用户提供舒适和安全的设计。该设备还配备了多种先进的系统监测和安全系统，使其成为任何从事分子束外延项目的实验室的理想选择。