分子束外延技术（MBE）是一种精密的工艺技术，用于将薄膜半导体层沉积在光电等微电子器件的基板上。RIBER 19C是一款基于法国MBE系统制造商RIBER S.A.制造的Knudsen积液电池技术的MBE设备。19C系统包括三个基本组件：超高真空室、用户友好控制软件包和一系列源模块。UHV腔室设计为可靠高效的操作，设有石英观察窗、机械仪表控制器和先进的热电偶单元，可测量每个源的温度在0.1 ~以内。RIBER 19C的软件包的用户界面提供了一种简单可靠的控制机器的方法。具有触摸屏和图形用户界面，使用户能够调整通量速率、转盘角度、温度、压力、紧身重量和操作参数。此外,软件包还包括可定制的数据记录和自动化功能,允许远程或自主操作。19C还具有高级范围的源模块。其两阀四气源模块可实现多阀/气组合气体的精确调节流动。它能够通过16个单独的阀门控制多达6种气体，从而能够精确控制分子的剂量。此外，其专利的旋转快门源模块使用户能够在不改变溷合体阀门数量的情况下连续沉积薄膜，从而对薄膜性能进行精确控制。此外，它的三个灯丝源模块允许广泛的温度范围被精确的控制和维护。这种工具通常用于沉积从元素化合物（如砷化合物）到III-V化合物的广泛材料。最后，它的电阻加热源模块给出了在不分解的情况下精确转移挥发性物质如III-V和II-VI化合物的能力。总体而言，RIBER 19C是先进的MBE资产，非常适合生产高性能和可靠的薄膜半导体层。它提供了可靠高效的特高压模型、用户友好的软件包，以及广泛的源模块，用于对层属性的精确控制。该设备已成功地用于各种光电和微电子器件的制造。