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VEECO Gen II 外延炉

库存状态:现货

VARIAN/VEECO GEN II分子束外延(MBE)设备是一种用于半导体工业生产纳米级结构和材料的高性能沉积和生长技术。它能够在受控的、接近理想的环境中沉积和生长半导体、金属和其他材料的薄膜。VEECO GEN II MBE系统是围绕一个模块化的热壁腔设计的,具有不同元件的多个源,可以精确控制材料的生长。它具有超高真空(UHV)单元、温度感应热电偶和闭环冷却单元。后者尤其有助于确保在沉积过程中准确控制温度和气体流动。沉积过程从加热的高纯度源室开始,该室被沉积在由晶圆提升机构固定在适当位置的基板上。为确保膜均匀,由自动控制器精确监测和调整基板温度和气体流动等参数。还使用原位快门和质谱仪监测沉积材料的精度和纯度。VARIAN GEN II MBE机还具有生产多层结构的能力,在同一基材内不同层次的不同材料。这是通过称为"分级多层沉积"的过程实现的,涉及交替沉积多层不同材料,一层在另一层之上。这允许制造多功能材料,如晶体管、LED和光伏电池。GEN II MBE工具能够生产低应变和应力的优质、无缺陷薄膜。由此,它在微电子学、光电子学、纳米技术等领域有着广泛的应用,使其成为半导体行业的宝贵工具。

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