RIBER 1000是法国RIBER S.A.生产的一种交钥匙分子束外延（MBE）设备。MBE是一种通过控制每个原子层的单独组成来生长材料结晶单层的技术，从而产生高度专业化的半导体和异质结构。1000能够形成具有原子级精度的材料层，从而能够精确控制晶格结构和化学成分。RIBER 1000利用两个积液单元，一个快门机构和一个加热器。两个积液细胞以原子、分子或金属簇的形式独立发射化学源性物质。通过调整热输出可以精确调节源材料的强度。此外，快门系统提供了一种进一步控制基板暴露于源材料的手段。该装置还具有多面真空热解沉积（VPD）机.真空热解操作允许高效生产复合半导体薄膜。真空热解沉积是一种化学气相法的过程，需要一个气密室充满气态前体，并暴露于温度较高的蛇形通路，以允许发生化学反应。这种技术可以在大表面积上生产具有均匀性能的高质量薄膜。通过其集成的光学和质谱仪确保了1000的精度。光谱仪提供对源发射的实时监测，而质谱仪则测量低压环境的组成。由于这两个特性是协同工作的，最终用户可以对材料层的一致和准确沉积有信心。最后，该工具拥有先进的计算机化控制资产，使用户能够控制沉积过程的各个方面。通过电脑的控制面板，用户可以手动控制每个单元的热量输出、快门速度和增长速度。这允许用户进行增量和精确的更改，以便修改底物或产生复杂的膜结构。RIBER 1000是一个交钥匙模型，提供生产优质复合半导体薄膜和异质结构所需的所有特性。