分子束外延（MBE）是一种先进的薄膜生长技术，利用化学气相沉积（CVD）或物理气相沉积（PVD）在晶圆表面上产生薄膜。RIBER 49是一台最先进的自动化MBE机器,旨在以经济高效的方式增长薄膜。49采用反射干扰增强（RIE）技术,在保持基板温度稳定的同时,将沉积速率最小化。RIBER 49提供多源功能，包括两个积液单元，一个射频（RF）等离子体源和一个质量分析离子束源。通过使用49的多源能力，可以生长广泛的化合物。RIBER 49还具有高达500 °C的基板加热和用于生长过程的集成真空系统。49的屏蔽能确保最佳的环境和电气安全,其真空室旨在消除空气污染并使样品污染保持在可接受的水平以下。RIBER 49还包括一个先进的实时过程监测系统，该系统提供实时反馈并能够灵活调整沉积参数。49配备了触摸屏界面，允许远程访问和数据分析，用于监控增长过程。RIBER 49在低基质温度下提供出色的晶体生长，提供了广泛晶体结构生长的可能性。多源能力和低操作温度允许广泛的材料如氧化物、氮化物和金属沉积，形成具有受控界面特性的异质结构。49是一个通用的MBE系统，使研究人员能够在各种底物上沉积性能最佳、均匀性高的薄膜。低底物温度和多源相容性允许不同晶体结构的生长，让研究人员深入了解纳米结构的性质。RIBER 49还提供了实时监控过程的能力，允许快速的过程优化。因此，49为研究人员寻求材料和设备研究的最新进展提供了有力的解决方桉。