OMICRON SVT 440是一种分子束外延（MBE）设备，用于在分子水平上生长高品质的结晶薄膜材料。该系统具有原位快门组件、四口袋源、光机静止室和粒子过滤器。该组件设计为在大面积上提供一致、高质量的薄膜沉积,处理时间最短。它有一个容量高达150毫巴，温度范围为100至400°C的真空室。该单元允许在等离子体蚀刻和沉积过程中精确控制基板加热温度和电子轰击，可用于半导体、氮化物、氧化物、金属氧化物、碳纳米管和介电层等多种应用。腔室具有较大的视野，允许在制造过程中精确沉积和对准。SVT 440还配备了用于氮掺入的RF等离子体源，以及全天候控制温度的闭环冷却机。它是现有最可靠的薄膜沉积系统之一，已被证明具有极好的均匀性、可重复性和可重复性。该工具具有用户友好的触摸屏界面，具有多语言支持和软件，允许对复杂的工艺配方进行编程，以优化沉积精度。它拥有一个综合安全资产，通过持续监测确保可预测和可靠的操作。OMICRON SVT 440是寻求在分子水平上沉积具有可重现特征的高品质薄膜的人的绝佳选择。SVT 440具有先进的加热温度、电子束和精密沉积能力，是一种经济高效、可靠的薄膜沉积在多种底物上的模型。