VARIAN/VEECO GEN 200是为了先进的纳米加工能力而设计的分子束外延（MBE）设备。该系统设计用于生产高质量的材料薄膜，具有卓越的控制和精度。它是一种通用工具，可用于从电子和光电器件到超导量子器件等多种应用。VEECO GEN 200是一个多室沉积单元。它由载荷锁、加工室和平台室三个主要腔室组成。负载锁用于安全地将基板和样品送入和送出机器。它配备了自动充卸电工具。该工艺室负责实际沉积，分为三个独立的区域：基板操纵区、汽化区和排气区。基板操纵区设有温控托盘，用于稳定基板温度控制。汽化区设有两个射频（RF）源，用于生产薄膜沉积所必需的蒸气物质（或前体）。排气带包含用于去除任何挥发性化合物的泵和过滤器。平台室作为引导和堆积基板的中间缓冲室，还配备了自动装载资产和温度控制模型。VARIAN GEN 200 MBE设备允许精确控制影响薄膜生长的参数。这些包括底物的温度，反应气体的压力和组成，以及传入物种的通量。这是通过独立的温度控制器、流量控制器、压力和质量流量控制器以及其他工艺参数的组合来完成的。该系统还具有强大的数据采集软件包，能够实时监测数据和控制各种工艺参数。此软件包包括一个适用于各种MBE流程的综合操作单元,以及用于数据分析的高级绘图工具和实用程序。GEN 200已成功用于制造高性能光电电子器件，成为广泛领域研究和产品开发的热门工具。其卓越的功能和多功能性使其成为各种应用程序的有用工具。