VARIAN/VEECO GEN III是一种分子束外延（MBE）设备，为高级沉积提供精确的原子反应环境。这是通过将单个分子或原子精确放置在层或器件内的首选位置来完成的。VEECO GEN III系统利用独特的超高真空环境，产生精确、高纯度和均匀的结果，完全不需要进一步净化或扩散过程。VARIAN GEN III提供三种主要单元配置,以满足不同类型的MBE沉积任务。单晶片机的特点是单晶片架配有加热的敏感器，非常适合单晶片实验；而双晶片工具提供了两个具有独立加热元件的半独立晶片持有者，使用户能够同时向两个晶片沉积。三晶圆资产是为高吞吐量而设计的，有一个简单的加载/卸载站，允许用户快速插入三个晶圆并沉积--这种配置最好用于半导体器件和显示器等大面积器件。所有的GEN III系统都能完全控制沉积过程的各个方面,包括压力、温度和通量。这些系统还具有一个内置冷却模型，以消散设备产生的任何热量。这种冷却设备，加上VARIAN/VEECO GEN III系统强大的通量输送，确保以尽可能最准确和可重复的速率进行沉积。在晶圆尺寸方面，VEECO GEN III与广泛的晶圆兼容，可以容纳直径达200毫米的晶圆。此外，该系统还具有内置的装卸运输和盒式磁带系统，可方便地处理和传输多达12个经过处理的晶圆。VARIAN GEN III还配备了高灵敏度的四极质谱仪，用于快速准确地识别有害的背景气体，以及各种自动化工具，用于精简和增强整个MBE过程。总体而言,GEN III是市场上最先进的MBE系统之一。其通量交付、晶圆和设备兼容性、自动化能力以及在单元配置方面的多功能性使其成为各种高级研发项目的理想选择。