RIBER 32P是一种用于薄膜沉积的分子束外延（MBE）设备。MBE基于在真空环境下将材料单层沉积到基板表面的概念。这一过程促进了原子、分子和纳米结构的自组装，允许生产性能优越的优质薄膜材料。32P MBE系统是一个高真空单元，能够达到10E-9millibar压力，并通过孔径发送原子束，从而能够精确控制沉积速率、束能量和沉积面积。这使得广泛的薄膜可以沉积，包括高温超导体、光学活性材料、半导体和透明导体。RIBER 32P包含六个源积液细胞，能够在300至1000°K的温度下分配原子，从而形成一种最佳的方法来沉积化学计量（不同元素的靶向组合）材料。32P的炉段允许对基板进行热控制，允许根据所需的温度范围加热和/或冷却25毫米至5英寸的不同尺寸的样品。这使得多层材料能够沉积到基板上，具有高度的控制和准确性。RIBER 32P还包含一个光学监控和诊断设置,允许对沉积过程进行实时分析。这包括一个与残留气体分析仪耦合的石英晶体微平衡，允许进行气体和薄膜厚度测量，以及一个四极质谱仪和光发射光谱仪，允许对MBE机内的化学环境进行实时观测。这些系统的输出然后可以被送入一个MBE控制工具，允许对过程进行完全的计算机化控制。总体而言，32P是一项综合性的MBE资产，能够生产具有卓越性能的优质薄膜。高真空环境，加上复杂的监测系统，可以严格控制沉积过程和对所用材料进行微调。这确保了高精度的沉积物，在重复运行过程中具有可靠的可重复性。