分子束外延（MBE）是一种薄膜沉积技术，用于创建单晶材料的薄层。RIBER 32是一种高度可靠的计算机控制设备，用于生产半导体结构。它配备了多达1-10个不同材料的分子束，并提供令人印象深刻的数据收集能力。该系统非常适合复杂结构的精确分子束外延（MBE）生长.32由一个特高压室和几个积液室组成，以六边形几何排列在样品支架周围。腔室连接到涡轮分子泵、机械泵以及用于清除大气气体腔室的离子泵。为了创建构成半导体器件基础的各层半导体，反应气体的多个积液电池，如原料和掺杂剂，被连接到腔室。该设备的工作温度在100-1,200 °C之间,可从主控制计算机进行调节。RIBER 32机器上的腔室可以配备各种配件和仪器来监控生长过程。例如，可以使用石英微平衡来控制样品的厚度，而可以使用反射高能电子衍射（RHEED）工具实时目视观察样品的结构和进展。质谱法也可用于测量腔内不同物种的浓度。32资产是一种功能强大的MBE增长工具,能够产生缺陷最小的高质量结构。计算机控制的设置允许用户快速调整压力、温度和成分等参数。这有助于根据不同的设备要求一致地生产所需的薄膜。此外，RIBER 32模型的高度通用性使其适合生产各种用途的材料，从光电子到储能。