REHM SMS-V6-N2 B3300/80-400是一种半导体氧化炉，用于制造薄介电层如二氧化硅、氮化硅等。它能够达到800°C至1400°C的最高温度,并具有均匀性和准确性。采用双频感应加热，为优化加工温度提供了选择的灵活性。炉子内的氧化气氛采用氮气和氧气的组合配置，如果需要，可提供高达100%的氮气。可以调整此环境以适应用户的特定流程要求,从而实现高效且可重复的处理。该机组配备了全面的温度控制范围，确保了精确的温度和均匀、可重复的结果。其中包括一个完全由计算机控制的数据记录设备，其中包含最多4个用于存储数据的配置文件程序、自动超温保护系统和手动过热保护设施。此外，该炉允许独立的烤箱控制不同的截面为晶圆的分级温度分析。集成的6级过滤器单元确保炉内大气无微粒，微处理器控制的气压监测机允许对大气进行动态控制。炉子的织物额定厚度为0.5英寸，以防止热量流失，并在炉子内部保持一致的温度，即使在高温操作下也是如此。炉子由重级不锈钢建造而成，既耐用又耐腐蚀，是众多工业用途的理想之选。炉内使用的惰性气体通过工艺气体开关（PGS）供给腔室。该炉还包括一个气压监测仪，以确保达到所需的增压。炉子的控制模块装有8.4英寸触摸屏液晶显示屏，允许用户设置和跟踪程序，控制温度、压力、气体溷合等参数，以及监控过程进度。USB端口也适用于数据备份、工具诊断和软件更新。可以使用以太网或RS232/RS485/USB接口远程控制安装。总体而言，REHM SMS-V6-N2 B3300/80-400是一种先进的高精度炉，适用于半导体晶片的氧化扩散。其灵活的设计、综合的控制资产、准确的温度监测能力，使其成为一整套行业的重要工具。