OAI 804MBA-086265是一种适用于自动光刻操作的高精度光学掩模对准器。这种掩模对齐器能够实现集成电路的大批量生产,因为它可以通过将吞吐量快速对齐到0.2微米来提高吞吐量。它配备了由两个对准摄像机和四个独立激光通道组成的State Core开环对准设备。这使得亚微米（<0.5微米）光学光刻面罩具有精确的对准能力。804MBA-086265还有一个自动浸入式透镜聚焦和对准系统，能够在9.6 µm的精度范围内测量晶片表面，每次都能达到高精度聚焦。这样可以确保任意数量的掩码能够精确对齐和精确聚焦,即使不使用手动干预。该对准器还与数字模式生成兼容，其高速电子束写入单元允许快速制造简单的掩模。这种掩模对齐器非常适合制造特征尺寸较小的细腻结构,因为光学对齐专家能够对低至0.1微米的小特征和小于0.5微米的特征进行成像,因为它的高对比度成像（HCI）优化了吞吐量和分辨率。此外,OAI 804MBA-086265为各种过程提供多种光学模式,以确保可重复、准确的性能。它便于用户使用,因为它允许不同CAD系统在多个平台上构建多个掩码,并且可以轻松地与现代平版印刷工具集成。它还支持多种基材尺寸和公差,在大批量生产环境中提供可靠的操作。这使得它适用于半导体制造厂、大学研究实验室以及其他需要准确性、可靠性和可重复性的设置。此高级掩码对齐器的设计目的是通过最大限度地减少操作员的参与、提高吞吐量、提高对齐精度、缩短周期时间、提高机器性能和更有效地利用劳动力来实现最大的效率。这种经济高效的解决方桉旨在与一系列先进的光刻工艺具有高度的兼容性。这样可以确保将高级光刻工具轻松集成到现有的制造工艺中。804MBA-086265被设计为寻求在大批量生产集成电路时实现最佳吞吐量和成本效率的能力的客户的最佳选择。