OAI 5008是为下一代光刻应用而设计的高精度掩模对齐器。它是一种全场紫外线曝光设备，使用光源和步进技术，能够支撑范围广泛的晶圆尺寸，从100毫米到8英寸（200毫米）的基板。5008是为了确保光掩模准确暴露在晶圆上。它使用步进定位精度,并提供± 0.5 μ m的可重复性。该系统提供了从0.2毫焦耳到20mJ的大量动态曝光能量,以及多种曝光选项。该单元的特点是激光干涉仪机器提供绝对对准，和轮廓照明光学工具，使均匀的曝光质量。此外，它还具有最大精度为1.5 μ m的自动视觉对准以及自动对准优化算法。资产还具有各种控制系统，这些系统提供了广泛的功能来提高其性能。它具有流程控制软件,该软件具有各种功能,如曝光参数控制、曝光管理、监控和性能报告,以确保一致性和高性能。此外，它还有一个带有统计过程控制（SPC）和实时优化（RTO）模块的高级过程控制（APC）模型，以精确监控和提高过程性能。OAI 5008是一款顶级的掩码对齐器,可提供卓越的准确性、可靠性和一致性。其高精度特性使其成为光刻设备的理想选择。该系统配置性强，能够满足不同类型光刻工艺的需求。它也是高效的,提供低缺陷级别的高吞吐量。