OAI 400是一种光学自动对准设备，设计用于主流光刻工艺中的大晶圆尺度对准。400具有高度精确的四反射分光器和曲面镜的集成设计,能够在0.2微米水平快速、精确地对准。这使得大面积阵列达到OAI 400毫米晶圆比例时,能够实现卓越的自动晶圆级对齐。光学自动对准系统主要由400头、掩模级、晶圆级和控制器组成。OAI 400有一个具有大行程范围的掩模和晶圆级，提供宽广的视野来完成精确和高精度的测量。控制器用于协调设备的所有移动。可以为各种应用程序使用不同的配置设置对齐头。机器有两个独立的CCD相机，同时捕捉晶圆和掩模图像的不同角度。在对准精度方面，400在x-y平面提供令人印象深刻的0.2微米水平。此蒙版对齐器使用五轴运动控制器,在z方向上精确定位。OAI 400还具有高速对齐算法,可以在200毫秒/对齐时自动对齐掩码图像和晶圆图像。其先进的视觉处理算法和功能使其成为大型掩模对齐的理想选择。该工具可以快速准确地处理图像，结果易于解读。此外，400还有一个集成的校准资产和一个严密控制的环境，准确可靠的对准。此校准模型可设置为根据不同的应用要求调整不同的参数。OAI 400与许多DFM进程兼容，如高级对准软件和激光对准。它还设计用于在真空环境中工作。总体而言,400是用于大面积阵列的可靠且经济实惠的掩模对准设备。它易于使用，在0.2微米的水平上提供高度精确的对准，这使得它非常适合在高精度光刻工艺中使用。其集成的校准系统和先进的视觉处理算法允许快速、可靠的读数，易于解读。它还设计用于在真空环境中工作，这使得它适合与激光对准使用。