OAI 208S是一种掩模对齐器，是一种工业光刻机，将预定的图样投射到硅晶片上，以便在芯片制造过程中创建集成电路的电路拓扑。208S是一种高精度的机器，它提供了一个精细和精确的传送投影模式到晶圆。OAI 208S模型具有双转向设备,可提高导轨稳定性和加工精度.这个模型还有一个光学整流系统，为遮罩图桉的角度失真提供校正。此外，208S有一个广泛的对齐领域，支持大型和复杂的设计模式。OAI 208S是一种全场光刻机，使用HeNe气体激光器将晶圆上的图样曝光。机器的两个轴可针对遮罩图桉的方向进行编程，确保提高对准精度。晶片保持在卡盘上，并通过滤波器从激光中暴露于紫外线。晶片暴露在光线下后，使用透明的液冷窗口进行聚焦。此窗口有助于在整个曝光过程中保持准确性。208S具有可提高准确性的直接图像迭加。此功能很重要,因为它无需为芯片的每一层创建单独的掩码。取而代之的是，将一层的图样与先前暴露的图层进行比较，进行必要的调整。使用数字图像控制单元（DICS）自动监控曝光过程。这台机器允许在晶圆暴露时调整光照水平和曝光模式。然后可以存储和分析数据,以确保重复过程的结果一致。总体而言，OAI 208S是一种高度精确可靠的光刻机，旨在快速有效地产生相同的集成电路。它能够快速准确地将预定的图样投射到硅片上，并且可以针对一系列设计进行调整。这种掩码对齐器提供了一种可靠的方法来一遍又一遍地产生相同的电路。