NANO Equipment DL-100是一种掩模对准器，专为纳米级制图工艺的精确掩模对准而设计。该系统能够处理直径最大为4英寸的晶片，从而可以在广泛的应用中使用。该单元由三个主要组件组成：对齐器单元、光学级和晶圆级。Aligner单元包括一个镜头阵列和一个带有实时测量和用户友好软件的控制机器。作为工具核心的光学级由精密光学显微镜和高分辨率相机组成。晶片级的设计是为了确保精确定位，并在对准过程中提供晶片的安全保持。光学显微镜的放大倍率高达400倍，用于放大图像并将图样精确定位到晶圆上。相机提供图桉化晶片的原位曝光，并捕捉对准结果。该软件为用户提供了广泛的对齐功能，包括模式识别和自动定心，可以大大缩短对齐时间，从而最大限度地提高生产率。控制资产还允许广泛的G-Code序列和宏编程,以实现流程自动化,并将模式布局简化为单行代码。DL-100提供了高精度的模式对齐，使设计能够准确地呈现与最小数量的废料。它能够高速产生复杂复杂的模式，并且由于其先进的控制模型而能够实时进行调整。这对半导体行业有利，因为它的高吞吐量能力。NANO设备DL-100是实现高精度模式和工艺的理想系统。其强大的光学、先进的软件、多轴控制、精确对准相结合，可轻松达到晶圆工艺的最高精度和速度。凭借其多才多艺的设计，DL-100可以支持广泛的应用，包括3 D图桉、深度蚀刻和薄膜沉积。