MIKASA MA-20 Mask Aligner是一种高度精确和可靠的Mask Aligner,设计用于对齐光掩模或标线和晶片。此对齐器提供了与平面曲面和3D曲面的精确对齐,并且可用于在分辨率高达2 μ m的硅晶片上创建阵列。它特别适用于半导体制造和其他需要精确标线放置的高精度应用。MA-20对齐器具有真空卡盘和XY轴级,可实现精确且可重复的对齐。其对准设备以专利激光反射角测量（LRAM）技术为基础，利用激光源各角度测量标线和基板之间的相对位置。该对齐器还结合了边缘检测系统，用于检测和准确识别目标信号，减少曝光时间并确保卓越精度。MIKASA MA-20的260 nm UV曝光装置使较小的特征尺寸的生产具有极高的准确性和可重复性。它配备了大功率卤素灯、紫外线滤光片和用于精确曝光控制的快门机。该对齐器还具有三维加热孵化器，为精确的温度控制和延长的标线寿命提供了受控环境。此外,MA-20还与基于Web的流程监控工具集成在一起,可轻松监控生产时间和标线寿命。它还允许用户远程调整机器参数，同时提供维护和报告日志。MIKASA MA-20多年来一直为可靠和经济高效的操作而设计,为用户提供易于使用和高效的掩模对准器,具有卓越的图像配准和对准精度。这种对齐器可以用来将图样转移到各种各样的基板上，包括硅片、玻璃、陶瓷和其他材料。MA-20 Mask Aligner结合了精度、可重复性和多功能性,是先进半导体制造工艺的理想解决方桉。